Luận án Nghiên cứu biến tính dây nano SnO2, WO3 nhằm ứng dụng cho cảm biến khí H2S và NO2
Trang 1
Trang 2
Trang 3
Trang 4
Trang 5
Trang 6
Trang 7
Trang 8
Trang 9
Trang 10
Tải về để xem bản đầy đủ
Bạn đang xem 10 trang mẫu của tài liệu "Luận án Nghiên cứu biến tính dây nano SnO2, WO3 nhằm ứng dụng cho cảm biến khí H2S và NO2", để tải tài liệu gốc về máy hãy click vào nút Download ở trên.
Tóm tắt nội dung tài liệu: Luận án Nghiên cứu biến tính dây nano SnO2, WO3 nhằm ứng dụng cho cảm biến khí H2S và NO2
.0 @ 400oC (e) @400 C (l) 50k 200 400 600 800 1000 200 400 600 800 Thêi gian (s) Thêi gian (s) Hình 3.4: Độ đáp ứng khí H2S được biểu diễn phụ thuộc vào nhiệt độ làm việc của cảm biến trên cơ sở dây nano SnO2 (a) và a) b) dây nano SnO2-CuO [10 mM Cu(NO3)2] (b). Hình 3.4 có thể nhận thấy dây nano SnO2 biến tính với CuO có độ đáp ứng khí H2S vượt trội so với cảm biến dây nano SnO2 chưa biến tính. Ở cùng nhiệt độ 250C và với cùng nồng độ từ 0,25 đến 2,5 ppm H2S: độ đáp 6 ứng khí của cảm biến dây nano SnO2 chưa biến tính đạt từ 1,6 đến 2,36 lần, khi biến tính với CuO thì độ đáp ứng của cảm biến này tăng lên và đạt giá trị từ 1,7 đến 531 lần ở nhiệt độ 250C. Hình 3.5 cho biết thời gian đáp ứng đã được cải thiện đáng kể khi dây nano SnO2 biến tính. Tuy nhiên, độ hồi phục của cảm biến trên cơ sở dây nano SnO2 biến tính CuO lại kém hơn và nhiệt độ càng thấp thì độ hồi phục càng kém. SnO - CuO (10 mM) SnO 2 160 240 (a) 2 148 0.25 ppm (b) 0.25 ppm 197 2.5 ppm 2.5 ppm ) 180 120 (s) s ( 160 g g Hình 3.5: Thời gian đáp ứng và 124 80 62 ®¸p øn ®¸p 80 67 ®¸p øn ®¸p 40 thời gian hồi phục tại nồng độ 46 23 21 21 17 0 7 0 0,25 ppm và 2,5 ppm biểu diễn SnO 275 240 2 SnO - CuO (10 mM) 240 (c) (d) 2 0.25 ppm 0.25 ppm 240 phụ thuộc vào nhiệt độ: (a,b) 2.5 ppm 2.5 ppm 176 180 (s) (s) 160 160 cảm biến trên cơ sở dây nano 104 101 håi phôc phôc håi håi phôc phôc håi 75 80 SnO , (c,d) cảm biến trên cơ sở 91 80 2 44 21 37 45 dây nano SnO -CuO. 0 0 2 200 250 300 200 250 300 o T (oC) T ( C) Hình 3.6 thể hiện rõ độ đáp ứng khí H2S được biểu diễn theo nồng độ khí H2S của cảm biến trên cơ sở dây nano SnO2 và cảm biến trên cơ sở dây nano SnO2-CuO [10 mM Cu(NO3)2], thấy rằng độ đáp ứng khí tăng theo nồng độ, nồng độ càng cao thì độ đáp ứng càng tốt. Điều này chứng tỏ rằng việc biến tính CuO cho cảm biến khí H2S làm cảm biến có độ đáp ứng tốt hơn và nhiệt độ làm việc thấp hơn. a) b) Hình 3.6: Độ đáp ứng khí H2S biểu diễn theo nồng độ khí H2S của cảm biến (a) dây nano SnO2 và (b) dây nano SnO2-CuO [10 mM Cu(NO3)2]. 200 320 292 SnO - CuO (10 mM) 180 SnO 2 2 o o 240 150 @ 250 C @ 250 C (s) 140 (s) Hình 3.7: (a,b) Thời gian đáp 160 100 (a) 130 (b) 95 ®¸p øng ®¸p ®¸p øng ®¸p ứng và (c,d) thời gian hồi 62 80 50 phục của cảm biến dây nano 46 17 0 200 SnO - CuO (10 mM) SnO (a,c) trước và (b,d) sau SnO 2 2 2 176 o 240 @ 250oC @ 250 C khi biến tính với CuO [10 mM 160 180 (s) (s) 148 160 Cu(NO3)2] biểu diễn theo håi phôc håi 120 114 håi phôc phôc håi (c) 80 56 (d) nồng độ ở 250C. 101 49 37 80 0 0.25 0.5 1.0 2.5 0.25 0.5 1.0 2.5 H S (ppm) H S (ppm) 2 2 7 Hình 3.7 thấy rằng cảm biến khí H2S khi biến tính CuO thời gian đáp ứng nhìn chung đã được cải thiện ở dải nồng độ từ 0,5 đến 2,5 ppm H2S. Tuy nhiên thời gian hồi phục ở nồng độ cao vẫn chưa được cải thiện nhiều, nhưng thời gian hồi phục ở nồng độ 0,25 ppm cũng được cải thiện từ 101 giây xuống còn 37 giây. Hình 3.8 có thể thấy rằng, ở hai nhiệt độ 200 và 250C độ đáp ứng khí của các mẫu biến tính với các nồng độ tiền chất khác nhau tương đối giống nhau về cả điện trở của cảm biến và độ đáp ứng khí, nồng độ khí càng cao thì độ đáp ứng khí càng tốt. Hình 3.8: Đặc trưng nhạy khí H2S của các mẫu cảm biến dây nano biến tính SnO2-CuO (dung dịch Cu(NO3)2 có nồng độ (a,d) o 1 mM, (b,o e) 10 mM và (c,f) 2.0 @ LPG & 200 C (a) @ CO & 200 C (b) 2.0 1.8 100 mM) đo1.8 ở (a,b,c) ) ) ) ) g g g g 200C và (d,e,f) 250C. /R /R /R /R 1.6 1.6 100 ppm ppm 100 100 a a a a R R R R ( ( ( ( 50 ppm 50 1.4 ppm 50 1.4 S S S S 10000 ppm ppm 10000 10000 5000 ppm ppm 5000 5000 25 ppm ppm 25 25 2500 ppm 2500 1.2 ppm 2500 1.2 SnO 2 10 ppm ppm 10 10 1000 ppm 1000 1000 ppm 1000 1000 SnO -CuO[1 mM Cu(NO ) ] 1000 (a) 2 3 2 (b) SnO -CuO[10 mM Cu1.0(NO ) ] 1.0 2 3 2 SnO -CuO[100 mM Cu(NO ) ] Hình 3.9: Sự phụ thuộc 2 3 2 300 600 900 1200 300 600 900 1200 2.0 o o 2.0 @ H & 200 C100 @ NH3 & 200 C 1000 ppm 100 2 ) của độ đáp ứng theo nồng g ) 1.8 1.8 g 1000 ppm /R a ) ) 500 ppm ) ) /R R g g a g g (c) ( độ khí H2S của cảm biến S R 1.6 (d) 1.6 ( 250 ppm ppm 250 250 /R SnO /R /R 2 /R 500 ppm ppm 500 500 a a S a 10 a 10 SnO -CuO[1 mM Cu(NO ) ] R R dây nano SnO và SnO - 100 ppm ppm 100 100 R 2 3 2 2 R 2 ( ( ( SnO -CuO[10 mM Cu(NO ) ] 1.4 1.4 ( S S 250 ppm 250 2 3 2 ppm 250 S S SnO -CuO[100 mM Cu(NO ) ] 2 3 2 1.2 CuO ở (a) 2001.2C và (b) 100 ppm ppm 100 100 1 o 1 @ 200 C @250oC 1.0 250C.1.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 H S (ppm) H S (ppm) 2 500 1000 1500 2000 500 1000 1500 2000 2 Thêi gian (s) Thêi gian (s) 1 ppm 1000 336 100100ppm ppm ) ) CO 336 g g 1000ppm 100 1000ppm /R /R 10001000ppm ppm a a 10001000ppm ppm 10001000ppm ppm R R ( ( CO H NH (e) 10 LPG 2 3 S S 1 1.1 1.7 1.8 1.5 LPG H NH CO H S 2 3 2 Hình 3.10: Đặc trưng chọn lọc của cảm biến SnO2-CuO ở đo ở 200C với các khí (a) LPG, (b) CO, (c) H2 và (d) NH3. (e) So sánh độ đáp ứng cảm biến khi đo với 1000 ppm LPG, 1000 ppm H2, 1000 ppm NH3, 100 ppm CO và 1 ppm H2S. 8 Hình 3.9 độ đáp ứng khí (Ra/Rg), qua nghiên cứu sự phụ thuộc của độ đáp ứng khí theo nồng độ của cảm biến khí H2S trên cơ sở dây nano SnO2 và dây nano SnO2-CuO, thấy rằng độ đáp ứng khí tăng theo nồng độ và tất cả các mẫu được biến tính đều tăng độ đáp ứng khí một cách đáng kể. Hình 3.11: Độ ổn định của cảm biến trên cơ sở dây nano SnO2 ở nồng độ 2,5 ppm tại nhiệt độ 250C của 14 chu kỳ thổi khí. Hình 3.10 thấy rằng, độ chọn lọc của cảm biến khí H2S là khá tốt, với nồng độ là 1 ppm độ đáp ứng khí đạt 336 lần, trong khi đó độ đáp ứng của các khí khác lần lượt là 1,1 lần (1000 ppm LPG), 1,5 lần (100 ppm CO), 1,7 lần (1000 ppm H2) và 1,8 lần (1000 ppm NH3) ở cùng nhiệt độ 200C khi dây nano SnO2 biến tính với hạt CuO. Hình 3.11 cho thấy, sau nhiều chu kỳ đo khí, điện trở của cảm biến trong không khí và trong khí H2S hầu như là không thay đổi. Có thể nói đây là một trong những ưu điểm quan trọng của phương pháp mọc trực tiếp. 3.2. Cảm biến dây nano SnO2 biến tính với NiO 3.2.1. Hình thái và cấu trúc của dây nano trước và sau khi biến tính Ảnh FESEM cho thấy, trước khi biến tính bề mặt dây nano SnO2 khá nhẵn và mịn nhưng sau quá trình biến tính đã xuất hiện nhiều hạt có kích thước cỡ nanomet trên bề mặt dây nano SnO2. Bên cạnh đó, chúng ta cũng có thể thấy được các phần tử dạng hạt xen kẽ với các phần tử dây nano SnO2. Các hạt bám trên bề mặt dây nano SnO2 và các phần tử dạng hạt được khẳng định qua kết quả phân tích EDX trên một đoạn dây nano [hình nhỏ bên trong Hình 3.12 (b)]. Thành phần tạp chất NiO khảo sát có giá trị trung bình là 0,97% về khối lượng. Hình 3.12: Ảnh SEM của dây nano SnO2 (a) trước khí biến tính, (b) sau khi biến tính với NiO, hình bên trong là kết quả phân tích EDX. 9 Giản đồ nhiễu xạ tia X của các mẫu dây nano SnO2 trước và sau biến tính. Hình 3.13a cho thấy các đỉnh nhiễu xạ tương ứng với các mặt (110), (101) và (211) của vật liệu SnO2 (JCPDS 41-1445). Còn Hình 3.13.b có thêm các đỉnh đặc trưng của NiO với các mặt (003), (012) và (110) (JCPDS 22 - 1189). Ảnh TEM (Hình 3.14) cho thấy sau khi biến tính, các hạt nano NiO được phủ ngẫu nhiên trên bề mặt thì dây nano SnO2. Ảnh HRTEM cho thấy dây nano SnO2 [Hình 3.14(d)] và hạt nano NiO [Hình 3.13(e)] đều có cấu trúc đơn tinh thể. Kết quả này chỉ ra rằng các hạt nano NiO chỉ bám trên mặt dây nano SnO2 chứ không khuếch tán vào bên trong mạng tinh thể của dây nano SnO2. Hình 3.13: Nhiễu xạ tia X của dây nano SnO2 (a) chưa biến tính và (b) sau khi biến tính với NiO. Hình 3.14: Ảnh quang học của cảm biến dây nano SnO2 (a). Ảnh SEM dây nano SnO2 (b). Ảnh TEM và HRTEM của dây nano SnO2 (c,d) và dây nano SnO2 biến tính với hạt nano NiO (e,f). 10 3.2.2. Tính chất nhạy khí của cảm biến H2S Chúng tôi khảo sát vật liệu dây nano SnO2 chưa biến tính ở ba nhiệt độ 300C, 350C và 400C. Hình 3.15(a) cho thấy độ đáp ứng khí H2S của dây SnO2 chưa biến tính tương đối bé, độ đáp ứng của vật liệu là lớn nhất khoảng 5 lần ở nồng độ là 10 ppm ở nhiệt độ 350C. Cảm biến dây nano SnO2 biến tính NiO như trên [Hình 3.15(b)] (với nồng độ tiền chất NiCl2 10 mM) ở 300C, 350C và 400C có độ đáp ứng khí lớn hơn vài trăm lần so với cảm biến dây nano chưa biến tính. Trên hình vẽ cũng thể hiện rõ nét sự tối ưu về nhiệt độ của cảm biến chưa biến tính là 350C và nồng độ tiền chất tốt nhất để biến tính là 10 mM. Hình 3.15: So sánh đặc trưng đáp ứng khí H2S của cảm biến dây nano SnO2 (a) và cảm biến dây nano SnO2 biến tính với NiO (b) đo ở 300C, 350C và 400C. Hình 3.16 thế hiện ảnh hưởng của nhiệt độ đến độ đáp ứng khí của cảm biến ở nồng độ khí khác nhau là 1; 2,5; 5 và 10 ppm trước và sau khi biến tính NiO. Đồ thị thể hiện rõ độ đáp ứng khí của cảm biến sau biến tính tăng lên một cách đáng kể (khoảng 51 lần) ở tất cả các nồng độ khí so với cảm biến khí chưa biến tính. Hình 3.16: Độ đáp ứng khí H2S của cảm biến dây nano SnO2 (a); cảm biến dây nano SnO2 biến tính NiO (b) được biểu diễn phụ thuộc theo nhiệt độ. Hình 3.17(b,c) thể hiện thời gian đáp ứng và thời gian hồi phục được cải o thiện rất tốt sau khi cảm biến dây nano SnO2 được biến tính NiO. Ở 300 C, thời gian hồi phục của cảm biến có thể đạt giá trị là 102 giây. 11 10 ppm H S 172 10 ppm H S 10 ppm H S 2 2 1000 2 (a) (b) (c) 1372 160 160 SnO 2 516 NiO-SnO 2 ) (s) s 120 112 SnO 115 120 ( ) 185 2 g 100 SnO 2 NiO-SnO 2 /R NiO-SnO a 2 R 102 ( ®¸p øng 80 80 phôc håi S 10 41 42 4.9 3.9 4.0 40 51 40 16 11 5 3 6 300 350 400 300 350 400 300 350 400 o o T ( C) T (oC) T ( C ) Hình 3.17: Độ đáp ứng khí H2S của cảm biến dây nano SnO2 và dây nano SnO2-NiO với nồng độ 10 ppm (a). Thời gian hồi đáp (b) và thời gian hồi phục (c) được biểu diễn phụ thuộc theo nhiệt độ với nồng độ khí 10 ppm H2S. Khi nồng độ khí tăng thì độ đáp ứng khí cũng tăng ngay cả khi cảm biến dây nano chưa SnO2 biến tính [Hình 3.18(a)]. Nhưng khi cảm biến dây nano SnO2 được biến tính thì độ đáp ứng khí tăng lên rất nhiều từ 200 lần lên 1372 lần tại nồng độ 10 ppm [Hình 3.18(b)]. Hình 3.19 cho thấy nồng độ càng cao thì độ đáp ứng càng nhanh, còn thời gian hồi phục thì ngược lai: nồng độ khí càng cao thì sự hồi phục về trạng thái ban đầu lâu hơn. Hình 3.18: Độ đáp ứng khí H2S của cảm biến dây nano SnO2 (a) và cảm biến dây nano SnO2 biến tính NiO (b) được biểu diễn phụ thuộc theo nồng độ. 1000 1000 SnO @350oC SnO - NiO@350oC 2 a) 2 b) 131 132 135 137 (s) (s) 100 59 100 43 45 30 ®¸p øng håiphôc håiphôc / / håi phôc ®¸p øng 10 10 håi phôc ®¸pøng ®¸pøng 7 7 6 6 3 4 3 1 2 1 2 4 6 8 10 2 4 6 8 10 H S (ppm) H S (ppm) 2 2 Hình 3.19: Thời gian đáp ứng và thời gian hồi phục của cảm biến dây nano SnO2 (a) và cảm biến dây nano SnO2 biến tính NiO tại nhiệt độ 350C. 12 Hình 3.20 là đặc trưng đáp ứng khí H2S ở nhiệt độ 300C của ba mẫu cảm biến trên cơ sở dây nano SnO2 đã biến tính với các dung dịch tiền chất NiCl2 có các nồng độ 1, 10 và 100 mM. Có thể thấy rằng cả ba mẫu cảm biến đều có độ đáp ứng tốt với khí H2S trong dải nồng độ (1- 10 ppm) và độ đáp ứng của cảm biến dây nano SnO2 biến tính NiO tăng khi tăng nồng độ khí. Với dung dịch tiền chất NiCl2 ở nồng độ 10 mM có độ đáp ứng tốt nhất. Hình 3.20: So sánh đặc trưng đáp ứng khí H2S ở 300C của dây nano SnO2 biến tính với các dung dịch NiCl2 có các nồng độ 1 mM, 10 mM và 100 mM. o Hình 3.21 là sự so sánh độ đáp ứng khí H2S ở nhiệt độ 300 C của dây nano SnO2 chưa biến tính và đã biến tính với NiO, có thể thấy độ đáp ứng khí của cảm biến đạt giá trị cao nhất tại nồng độ biến tính 10 mM là 1372 lần, trong khi đó cảm biến dây nano chưa biến tính chỉ đạt 4,9 lần. Có thể khẳng định phương pháp biến tính dây nano SnO2 với NiO cho cảm biến khí H2S khá ổn định. Tiếp tục khảo sát ở nồng độ thấp (100 ppb và 500 ppb) và ở nhiệt độ 300C, 350C và 400C cho thấy độ đáp ứng của cảm biến với nồng độ 100 ppb H2S khoảng 2 lần, trong khi ở nồng độ 500 ppb độ đáp ứng có thể đạt giá trị bằng 15 ở nhiệt độ làm việc 300oC, điều này cho thấy cảm biến có thể hoàn toàn đáp ứng tốt với khí H2S ở nồng độ cỡ ppb [Hình 3.22]. o 1372 T @300 C 953 1000 376 ) g SnO 100 2 /R a 42 SnO -NiO [1mM NiCl ] 2 2 R ( SnO -NiO [10mM NiCl ] 2 2 S SnO -NiO [100mM NiCl ] 10 2 2 4.9 1 1.9 1.2 1.5 0 2 4 6 8 10 H S (ppm 2 ) Hình 3.21: So sánh độ đáp ứng của cảm biến ở 300C khi dây nano SnO2 chưa được biến tính và được biến tính với các dung dịch NiCl2 có các nồng độ 1; 10;100 mM. 13 Hình 3.22: Độ đáp ứng của dây nano SnO2 biến tính với dung dịch NiCl2 10 mM đo ở 300C, 350C, 400C với nồng độ khí H2S là 100 ppb và 500 ppb. 1 ppm SnO 2 40 Hình 3.23: So sánh độ đáp ) NiO-SnO a 2 ứng khí của cảm biến dây /R g 30 nano SnO2 với dây nano SnO2 & R & g 20 biến tính NiO khi đo với 10 /R a R ( ppm H2S, 5 ppm NH3, 200 S 10 5 ppm 200 ppm 1 ppm ppm C2H5OH và 1 ppm NO2 H S NH C H OH NO 2 3 2 5 2 Khi biến tính NiO thì độ đáp ứng của dây nano SnO2 với khí H2S cao hơn nhiều so với các khí khác chứng tỏ có độ chọn lọc rất tốt với khí H2S [Hình 3.23]. Để giải thích cơ chế nhạy khí H2S của cảm biến dây nano SnO2 biến tính hạt nano NiO, chúng tôi đã dựa vào sự hình thành chuyển tiếp của các chuyển tiếp dị thể p-n giữa hạt NiO (loại p) và dây nano SnO2 (loại n). Vùng nghèo p-NiO n-SnO2 Mức chân không χNiO = φNiO= 0.5 eV 1,4 eV 5,4 eV φSnO2= 4,9 eV (1) Eg = 4,3 eV EC Eg = 3,5 eV EF - EV - (2) EC EF EV NiO n-SnO2 p-NiO n-SnO2 Hình 3.24: Mô hình cơ chế H2S O2 H S O NiS 2 2 nhạy khí H2S của dây nano p-NiS n-SnO2 SnO2 biến tính bề mặt với hạt 0,45 eV EC E - 3,5 eV F nano NiO. EV - EC EF EV n-SnO p-NiS n-SnO 2 2 3.3. Kết luận Trong chương này, chúng tôi đã trình bày các kết quả nghiên cứu về việc biến tính bề mặt dây nano SnO2 với CuO hoặc với NiO cho cảm biến 14 khí H2S bằng phương pháp nhỏ phủ đơn giản. Kết quả khảo sát cho thấy cả hai hệ cảm biến dây nano SnO2-CuO và SnO2-NiO đều có độ đáp ứng và độ chọn lọc với khí H2S tốt hơn cảm biến dây nano SnO2 chưa biến tính. Ngoài ra, cảm biến dây nano biến tính NiO có thể đo khí H2S ở các nồng độ thấp cỡ ppb và cảm biến dây nano biến tính CuO có độ ổn định khá tốt với nhiều chu kỳ đo liên tiếp. CHƯƠNG IV: CẢM BIẾN KHÍ NO2 TRÊN CƠ SỞ DÂY NANO WO3 BIẾN TÍNH 4.1. Cảm biến dây nano WO3 dạng màng chế tạo bằng công nghệ mọc trực tiếp 4.1.1. Hình thái và cấu trúc của cảm biến dây nano WO3 dạng màng Hình 4.1: Ảnh quang học của điện cực trước khi mọc dây nano WO3 (a) và sau khi mọc dây nano WO3 (b). Ảnh SEM của cảm biến (c), hình thái bề mặt dây ở vùng giữa 2 điện cực (d), phần điện cực Pt (e), và ở vùng ranh giới giữa điện cực Pt và phần nền W (f). Ảnh quang học [Hình 4.2(a,b)] của điện cực trước khi mọc dây nano WO3 và sau khi mọc dây nano WO3, cho thấy mầu sắc của bề mặt điện cực thay đổi chứng tỏ là dây nano có thể được mọc trên diện tích có phủ W với độ đồng đều khá cao, đường kính dây nano cỡ 100-200 nm, chiều dài lên đến vài micromet. Hình 4.2: Ảnh TEM (a) và HRTEM (b,c,d) của dây nano WO3. Giản đồ nhiễu xạ tia X (Hình 4.3) chứng tỏ dây nano trước khi ủ là W18O49 (JCPDS 36-0101), còn mẫu sau khi ủ ở 600C là WO3 (JCPDS 43- 1035). Điều này cho thấy với nhiệt độ ủ (oxi hóa) 600C, dây nano đã bị oxi hóa hoàn toàn thành WO3. 15 Hình 4.3: Giản đồ nhiễu xạ tia X của dây nano W18O49 (a) và dây nano WO3 (b) trên đế Al2O3. 4.1.2. Tính chất nhạy khí của cảm biến dây nano WO3 dạng màng trên đế Al2O3 Hình 4.4 (a-d) thể hiện đặc trưng đáp ứng khí NO2 của cảm biến trên cơ sở dây nano WO3 ở các nhiệt độ làm việc 200, 250 và 300C với các nồng độ khí (1-5 ppm). Qua nghiên cứu ta thấy, cảm biến có độ đáp ứng và hồi phục khá tốt khi đo trong khoảng nhiệt độ 250-300C, và sau các chu kỳ thổi khí với các nồng độ khí khác nhau, điện trở của cảm biến đều trở về vị trí ban đầu [Hình 4.4 (a-c)]. Hình 4.4: Đặc trưng đáp ứng khí NO2 của cảm biến dây nano WO3 ở 200C, 250C và 300C với nồng độ 1 ppm, 2,5 ppm và 5 ppm. Hình 4.5 (b,c) thể hiện đặc trưng đáp ứng khí NO2 của 12 cảm biến với nồng độ khí khảo sát là 1 ppm ở nhiệt độ 300C. Kết quả khảo sát cho thấy, điện trở của 12 cảm biến khi tiếp xúc với không khí và khi tiếp xúc với môi trường khí NO2 khác nhau trong một khoảng khá rộng, điều này là do sự khác nhau về khoảng cách và vị trí đặt cảm biến trong lò chế tạo. Có thể thấy rằng các cảm biến ở hàng (1) và hàng (2) [Hình 4.5 (b)] có độ 16 đáp ứng khí thấp hơn (từ 1,4 đến 2,3 lần), các cảm biến ở hàng (3) và hàng (4) (từ 2,6 đến 3,1 lần). Có thể giải thích điều này là vì các cảm biến ở hàng (1) và hàng (2) đặt gần thuyền chứa bột nguồn WO3 hơn so với các vị trí ở hàng (3) và hàng (4). Hình 4.5 (e) cho thấy độ đáp ứng khí NO2 của 7 chu kỳ thổi khí chỉ dao động khoảng 1,7%. Và sau 3 tháng, độ đáp ứng khí NO2 của 11 chu kỳ chỉ thay đổi khoảng 1,4%. Điều này chứng tỏ sau 3 tháng, cảm biến có độ ổn định tốt. B C D (b) 4 3 2 1 2 3 4 900 4B 4C 4D 600 (a) 300 900 3B 3D ) 600 k ( o C (c) R 300 3C & 300 2 900 B 2B 2D @1 ppm NO 3.1 C 4 600 2C 2.9 2.8 D 3.0 2.6 3 ) 300 2.3 a /R 2.7 2.2 g 900 I R 2 ( 1B 1D S 1C 2.1 1.5 600 1 1.9 1.4 300 4 D 3 C 15 30 45 15 30 45 15 30 45 Hµng 2 Thêi gian (phót) B 1 Cét (d) (e) o 2.1 o 1 ppm NO & 300 C 0.8 1 ppm NO & 300 C Sau 3 th¸ng 2 Sau 3 th¸ng 2 0.8 ) a ) 0.7 2.0 ) 0.7 /R a R M ( ( 0.6 M 0.6 ( Mean: S R 1.9 R 1.98 ± 0.033 0.5 0.5 Mean: 1.95 ± 0.027 0.4 1.8 0.4 2 4 6 3 6 9 2000 4000 6000 2000 4000 6000 Sè chu kú ®o Thêi gian (s) Thêi gian (s) Hình 4.5: Đặc trưng đáp ứng khí NO2 của 12 cảm biến sau 1 lần chế tạo: (a) cảm biến dây nano WO3 chế tạo trên đế Al2O3, (b) đặc trưng đáp ứng khí của 12 cảm biến, (c) giá trị độ đáp ứng khí ở các vị trí tương ứng, (d) đặc trưng đáp ứng khí với 7 và 11 chu kỳ khí của cảm biến trước và sau 3 tháng và (e) phân bố độ đáp ứng khí theo số chu kỳ khí với nồng độ 1 ppm ở 300C. 4.1.3. Sự tăng cường tính chất nhạy khí bằng biến tính với RuO2 Hình 4.6 cho thấy sự khác nhau về hình thái và cấu trúc của dây nano WO3 trước và sau khi biến tính với dung dịch 1mM Ru(OOC- CH3)2 có kèm theo quá trình xử lý nhiệt ở 600C trong 5 giờ. Trên bề mặt dây nano WO3 biến tính xuất hiện các hạt nano RuO2 gắn trên dây. Tuy nhiên các hạt nano RuO2 phân bố chưa được đồng đều và kích thước hạt còn khá nhỏ. 17 Hình 4.6: Ảnh FESEM của dây nano WO3 (a), dây nano WO3 biến tính RuO2 (b), giản đồ nhiễu xạ tia X (c), phổ tán xạ năng lượng EDX (d), anh HRTEM của dây nano WO3 biến tính RuO2 (e,f) và ảnh biến đổi Fourier (FFT) của hạt RuO2 (g). Giản đồ nhiễu xạ tia X và phổ tán xạ năng lượng tia X (EDX)cho thấy sự xuất hiện các đỉnh của RuO2 (JCPDS 43-1035 và 21-1172). Kết quả này được khẳng định bằng ảnh HR-TEM: hạt nano RuO2 khoảng 10-15 nm gắn chặt lên bề mặt dây nano WO3. 2+ RuO - WO [1 mM Ru2+] RuO - WO [100 mM Ru ] (a) 2 3 2 3 (c) o @ 250oC & NO @ 250 C & NO 2 2 100 100
File đính kèm:
- luan_an_nghien_cuu_bien_tinh_day_nano_sno2_wo3_nham_ung_dung.pdf